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SK集团加速半导体垂直整合
SK集团加速半导体垂直整合
据韩媒ETNews报导，业界消息表示，SKInnovation以对SK海力士供应产品为目的，正从事光阻剂(Photoresist)研发。近期SKInnovation已将少量光阻剂样品交给SK海力士进行测试，后续经由意见回馈改善品质后，朝向量产目标迈进。
光阻剂用在硅晶圆的曝光制程，与通过光罩的光作用形成电路图形。曝光设备与材料依照曝光波长分为G-line、I-line、KrF、ArF与极紫外光(EUV)等多种方式，其中以极紫外光最为先进。
SKInnovation开发的是用在生产3DNANDFlash的KrF光阻剂，涂布在晶圆上时必须形成10?以上的厚膜，之后才能顺利将存储器单元(Cell)堆叠成垂直构造。
ArF与极紫外光的光阻剂材料市场主要由信越化学(Shin-EtsuChemical)、住友化学(SumitomoChemical)、东京应化工业(TOK)、JSR等日本业者掌握；南韩东进世美肯(DongjinSemichem)与德国默克(Merck)供应技术难易度相对较低的3DNANDFlashKrF光阻剂。
SKInnovation表示，公司从2年前开始着手研发光阻剂等电子材料，希望能以石油、润滑油领域累积的技术能量，也在特殊化学材料市场取得斩获。
SK集团在将海力士纳入旗下后，开始以购并策略强化半导体材料、零组件事业能量。2016年1月买下半导体特殊气体业者OCIMaterials并更名为SKMaterials。
SKMaterials生产三氟化氮(NF3)，用来清除半导体机台腔体内的残留物质，全球市占率第一。2016年SKMaterials先后与日本TriChemicalLaboratories及昭和电工(ShowaDenko)合资成立子公司SKTriChem、SKShowaDenko。
SKTriChem生产锆(Zr)系前驱体(Precursor)高介电(High-K)蒸镀材料；SKShowaDenko生产蚀刻气体三氟甲烷(CH3F)。这两项材料都将对SK海力士供应。
2017年初SK集团再度向乐金集团(LGGroup)购买硅晶圆公司乐金Siltron过半数股权。先前SK海力士分别向信越化学、Sumco、SunEdisonSemiconductor、Siltronic及乐金Siltron等5家供应商采购硅晶圆，未来应会增加对乐金Siltron的采购量。
业界表示，2015年SK集团会长崔泰源订定2020年集团营收目标200兆韩元(约1,779亿美元)，并选定多项领域作为新树种事业培育，其中规模最大的就是半导体及相关材料与零组件事业。之后SK集团主要子公司纷纷投入相关研发，如SKC的子公司SKCSolmics正在开发光罩基底(MaskBlank)。
日本Hoya、成膜光电(Ulcoat)是光罩基底市场主要供应商，南韩业者S&STech也自主研发，将产品往海外市场销售。SKCSolmics若能成功将光罩基底带入商用化，未来可望大幅提高营收。
SKInnovation对开发3DNANDFlash的KrF光阻剂传闻表示，光阻剂等各种电子材料化学产品都还在开发阶段，是否进行量产还需经过审慎评估才能确定。
